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纳米电镀设备
 
 
 
 

连续式PECVD磁控溅射镀膜镀膜设备

 
 
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产品简介:

该系列生产线主要用于在平板玻璃、压克力、PC、PET等表面镀制高质量、高性能金属膜、电磁屏蔽膜、反应膜、复合膜、透明导电膜、抗反射(AR)、增反射膜,LOW-E等膜层。适用于幕墙玻璃,铝镜,反光镜生产,配备旋转阴极,平面阴极磁控溅射靶。可以在大平板玻璃上镀制一至多层特殊的金属或金属氧化物,金属氮化物薄膜,金属单质膜,复合膜,Low- E辐射膜也可在小弯的弧形玻璃上镀膜。镀膜线产量高,每年可镀膜200万平方米以上,多室传动,充分保证膜层的均匀性,物理性。
本公司可根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。
 
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优势:

·  设备模组化设计,易拆卸,维修,保养          ·  高靶材利用率            ·  高生产力及产品良率                                           

 

·  环保制程无污染及环保问题                           ·  高客制化兼顾产品规格与低投资成本需求

技术配置:

腔体结构:采用高效的卧式连续磁控镀膜流水线,配备前后粗抽室,前后过渡室,前后精抽室,前后缓冲室,彩镀室。

靶材设计:采用新型旋转阴极靶材以及平面阴极靶材。

电源配置:配备大功率中频磁控溅射电源

传动系统:滚轴传动,变频可调,感应式室门开启系统。

真空系统:扩散泵(分子泵)+罗茨泵+机械泵+深冷泵

可镀膜玻璃或平板,尺寸可定制

生产线安采用了先进的插板阀进行腔室隔断,可以实现有效隔断,稳定工艺气体。

生产线采用了均匀进气管结构设计,气流注入均匀平缓;

电气控制:生产线采用PLC全过程控制,快速的生产节拍,配备工业计算机显示系统。

人机对话:控制系统能实现人、机对话,及时对生产过程进行必要干预。运行过程有报警提示和故障显示,故障显示能提示操作人员正确的操作和排故。

其他技术参数:

极限真空: 3.0×10-2Pa

水压流速≥0.2Mpa 3m3/h;水温≤25℃;气压:0.4-0.8Mpa;

一般规格:W1200mm*L2000mm(单室) W1500mm*L2400mm(单室)

 

真空室尺寸或设备配置可按客户产品及特殊工艺要求订做、

 

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