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纳米电镀设备
 
 
 
 

陶瓷真空镀钛设备-真空纳米离子镀膜机

陶瓷真空镀钛设备也称为真空多弧离子镀膜设备


陶瓷真空镀钛设备适用于镀制装饰膜如:金色的氮化钛,黑色的碳化钛,七彩的氮氧化钛等,亦可镀防腐蚀膜(如:AL、Cr不锈钢及TiN等)和耐磨膜。膜层与基底结合牢固,适合于手表、五金、餐具及要求耐磨超硬的刀具、模具等。具有很高的发展前景。主要用于镀制多种金属,也可以镀多层膜、合金膜及化学物膜,如镀超硬耐磨损膜、防腐蚀膜、装饰膜(金、银、黑、红、蓝、绿等颜色),结合磁控溅射技术可镀制多层复合膜。

多弧离子镀原理图

多弧离子镀膜机是一种高效、无害、无污染的离子镀膜设备,具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。

其工作原理是把真空弧光放电技术用于蒸发源的技术,即在真空环境下引燃蒸发源(阴极),与阳极之间形成自持弧光放电,既从阴极弧光辉点放出阴极物质的离子。由于电流局部的集中,产生的焦耳热使阴极材料局部的爆发性地等离子化,在工件偏压的作用下与反应气体化合,而沉积在工件表面上形成被镀的膜层。

真空电弧离子的原理是基冷阴极自持弧光放电结合脉冲技术及磁控溅射技术,使沉积粒子细化,膜层的各项性能得以提高。它不仅能在金属制品表面进行镀膜而且能在非金属制品表面制品上进行镀膜,可以镀金属膜、氮化钛、碳化钛、氮化锆、氮化铬、及钛、镍、铬、铜、等化合物膜、多层超硬膜、氮化钛掺金膜和合金膜,并能在极短的时间内完成全部加工工艺过程,是一种多功能高效镀膜设备。

 

真空多弧纳米离子镀结构特点:

1、采用脉冲技术,使沉积粒子细化,膜的性能提高,且具有沉积速度快、离子能力大等特点;

2、配备柱状阴极点弧源和磁控溅射源,适合范围广;

3、新型靶源结构,有效提高离化率和膜层均匀性;

4、所镀膜层具有硬度高,膜层与基底结合强度好,耐酸、碱、盐的能力强的特点。

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