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光学薄膜的真空镀膜设备
作者：邓工镜面涂装整体工艺 来源：纳米喷镀|纳米喷涂|真空镀|离子镀|蒸发镀|多弧镀|磁控溅射|合金泡镀|高分子泡镀|www.namipendu.cn 点击数：
光学薄膜的真空镀膜设备
型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本
制造时间：2003年
状态：运行极好
生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html）
技术规格：
真空腔体尺寸： φ1100mmｘH 1600mm
衬底圆顶尺寸： φ950 （3～30rpm）
耐加热系统： φ20mm 4kw
蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)
JEBG-102UHO（φ35ccx20）
JST-16F (16kw)
IAD 系统： 无
光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass φ30x30)
石英晶体微天平监控器： 无
真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统： 最大350℃±10℃（36kw）
型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本
制造时间：2003年8月
状态：运行极好
生产厂家：Rock Giken Inc （http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html）
技术规格：
真空腔体尺寸： φ1150mmｘH 1500mm
衬底圆顶尺寸： φ950 （3～30rpm）
耐加热系统： φ20mm 4kw
蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)
G-12100（φ35ccx20）
D-10001 (10kw)
IAD 系统： 无
光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass φ10x60pcs)
石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon)
真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统： 300℃±10℃（21kw）
光学薄膜的真空镀膜设备
型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本
制造时间：2003年
状态：运行极好
生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html）
技术规格：
真空腔体尺寸： φ1100mmｘH 1600mm
衬底圆顶尺寸： φ950 （3～30rpm）
耐加热系统： φ20mm 4kw
蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)
JEBG-102UHO（φ35ccx20）
JST-16F (16kw)
IAD 系统： 无
光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass φ30x30)
石英晶体微天平监控器： 无
真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统： 最大350℃±10℃（36kw）
型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本
制造时间：2003年8月
状态：运行极好
生产厂家：Rock Giken Inc （http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html）
技术规格：
真空腔体尺寸： φ1150mmｘH 1500mm
衬底圆顶尺寸： φ950 （3～30rpm）
耐加热系统： φ20mm 4kw
蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)
G-12100（φ35ccx20）
D-10001 (10kw)
IAD 系统： 无
光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass φ10x60pcs)
石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon)
真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统： 300℃±10℃（21kw）
光学薄膜的真空镀膜设备
型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本
制造时间：2003年
状态：运行极好
生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html）
技术规格：
真空腔体尺寸： φ1100mmｘH 1600mm
衬底圆顶尺寸： φ950 （3～30rpm）
耐加热系统： φ20mm 4kw
蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)
JEBG-102UHO（φ35ccx20）
JST-16F (16kw)
IAD 系统： 无
光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass φ30x30)
石英晶体微天平监控器： 无
真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统： 最大350℃±10℃（36kw）
型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本
制造时间：2003年8月
状态：运行极好
生产厂家：Rock Giken Inc （http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html）
技术规格：
真空腔体尺寸： φ1150mmｘH 1500mm
衬底圆顶尺寸： φ950 （3～30rpm）
耐加热系统： φ20mm 4kw
蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)
G-12100（φ35ccx20）
D-10001 (10kw)
IAD 系统： 无
光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass φ10x60pcs)
石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon)
真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统： 300℃±10℃（21kw）
光学薄膜的真空镀膜设备
型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本
制造时间：2003年
状态：运行极好
生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html）
技术规格：
真空腔体尺寸： φ1100mmｘH 1600mm
衬底圆顶尺寸： φ950 （3～30rpm）
耐加热系统： φ20mm 4kw
蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)
JEBG-102UHO（φ35ccx20）
JST-16F (16kw)
IAD 系统： 无
光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass φ30x30)
石英晶体微天平监控器： 无
真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统： 最大350℃±10℃（36kw）
型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本
制造时间：2003年8月
状态：运行极好
生产厂家：Rock Giken Inc （http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html）
技术规格：
真空腔体尺寸： φ1150mmｘH 1500mm
衬底圆顶尺寸： φ950 （3～30rpm）
耐加热系统： φ20mm 4kw
蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)
G-12100（φ35ccx20）
D-10001 (10kw)
IAD 系统： 无
光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass φ10x60pcs)
石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon)
真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统： 300℃±10℃（21kw）
光学薄膜的真空镀膜设备
型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本
制造时间：2003年
状态：运行极好
生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html）
技术规格：
真空腔体尺寸： φ1100mmｘH 1600mm
衬底圆顶尺寸： φ950 （3～30rpm）
耐加热系统： φ20mm 4kw
蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)
JEBG-102UHO（φ35ccx20）
JST-16F (16kw)
IAD 系统： 无
光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass φ30x30)
石英晶体微天平监控器： 无
真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统： 最大350℃±10℃（36kw）
型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本
制造时间：2003年8月
状态：运行极好
生产厂家：Rock Giken Inc （http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html）
技术规格：
真空腔体尺寸： φ1150mmｘH 1500mm
衬底圆顶尺寸： φ950 （3～30rpm）
耐加热系统： φ20mm 4kw
蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)
G-12100（φ35ccx20）
D-10001 (10kw)
IAD 系统： 无
光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass φ10x60pcs)
石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon)
真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统： 300℃±10℃（21kw）
光学薄膜的真空镀膜设备
型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本
制造时间：2003年
状态：运行极好
生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html）
技术规格：
真空腔体尺寸： φ1100mmｘH 1600mm
衬底圆顶尺寸： φ950 （3～30rpm）
耐加热系统： φ20mm 4kw
蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)
JEBG-102UHO（φ35ccx20）
JST-16F (16kw)
IAD 系统： 无
光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass φ30x30)
石英晶体微天平监控器： 无
真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统： 最大350℃±10℃（36kw）
型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本
制造时间：2003年8月
状态：运行极好
生产厂家：Rock Giken Inc （http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html）
技术规格：
真空腔体尺寸： φ1150mmｘH 1500mm
衬底圆顶尺寸： φ950 （3～30rpm）
耐加热系统： φ20mm 4kw
蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)
G-12100（φ35ccx20）
D-10001 (10kw)
IAD 系统： 无
光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass φ10x60pcs)
石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon)
真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统： 300℃±10℃（21kw）
光学薄膜的真空镀膜设备
型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本
制造时间：2003年
状态：运行极好
生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html）
技术规格：
真空腔体尺寸： φ1100mmｘH 1600mm
衬底圆顶尺寸： φ950 （3～30rpm）
耐加热系统： φ20mm 4kw
蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)
JEBG-102UHO（φ35ccx20）
JST-16F (16kw)
IAD 系统： 无
光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass φ30x30)
石英晶体微天平监控器： 无
真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统： 最大350℃±10℃（36kw）
型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本
制造时间：2003年8月
状态：运行极好
生产厂家：Rock Giken Inc （http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html）
技术规格：
真空腔体尺寸： φ1150mmｘH 1500mm
衬底圆顶尺寸： φ950 （3～30rpm）
耐加热系统： φ20mm 4kw
蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)
G-12100（φ35ccx20）
D-10001 (10kw)
IAD 系统： 无
光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass φ10x60pcs)
石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon)
真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统： 300℃±10℃（21kw）
光学薄膜的真空镀膜设备
型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本
制造时间：2003年
状态：运行极好
生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html）
技术规格：
真空腔体尺寸： φ1100mmｘH 1600mm
衬底圆顶尺寸： φ950 （3～30rpm）
耐加热系统： φ20mm 4kw
蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)
JEBG-102UHO（φ35ccx20）
JST-16F (16kw)
IAD 系统： 无
光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass φ30x30)
石英晶体微天平监控器： 无
真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统： 最大350℃±10℃（36kw）
型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本
制造时间：2003年8月
状态：运行极好
生产厂家：Rock Giken Inc （http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html）
技术规格：
真空腔体尺寸： φ1150mmｘH 1500mm
衬底圆顶尺寸： φ950 （3～30rpm）
耐加热系统： φ20mm 4kw
蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)
G-12100（φ35ccx20）
D-10001 (10kw)
IAD 系统： 无
光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass φ10x60pcs)
石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon)
真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统： 300℃±10℃（21kw）
光学薄膜的真空镀膜设备
型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本
制造时间：2003年
状态：运行极好
生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html）
技术规格：
真空腔体尺寸： φ1100mmｘH 1600mm
衬底圆顶尺寸： φ950 （3～30rpm）
耐加热系统： φ20mm 4kw
蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)
JEBG-102UHO（φ35ccx20）
JST-16F (16kw)
IAD 系统： 无
光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass φ30x30)
石英晶体微天平监控器： 无
真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统： 最大350℃±10℃（36kw）
型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本
制造时间：2003年8月
状态：运行极好
生产厂家：Rock Giken Inc （http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html）
技术规格：
真空腔体尺寸： φ1150mmｘH 1500mm
衬底圆顶尺寸： φ950 （3～30rpm）
耐加热系统： φ20mm 4kw
蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)
G-12100（φ35ccx20）
D-10001 (10kw)
IAD 系统： 无
光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass φ10x60pcs)
石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon)
真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统： 300℃±10℃（21kw）
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