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光学薄膜的真空镀膜设备
作者:邓工镜面涂装整体工艺 来源:纳米喷镀|纳米喷涂|真空镀|离子镀|蒸发镀|多弧镀|磁控溅射|合金泡镀|高分子泡镀|www.namipendu.cn 点击数:
光学薄膜的真空镀膜设备
型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本
制造时间:2003年
状态:运行极好
生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html)
技术规格:
真空腔体尺寸: φ1100mmxH 1600mm
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm)
耐加热系统: φ20mm 4kw
蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)
JEBG-102UHO(φ35ccx20)
JST-16F (16kw)
IAD 系统: 无
光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass φ30x30)
石英晶体微天平监控器: 无
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统: 最大350℃±10℃(36kw)
型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本
制造时间:2003年8月
状态:运行极好
生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html)
技术规格:
真空腔体尺寸: φ1150mmxH 1500mm
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm)
耐加热系统: φ20mm 4kw
蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)
G-12100(φ35ccx20)
D-10001 (10kw)
IAD 系统: 无
光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass φ10x60pcs)
石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon)
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统: 300℃±10℃(21kw)
光学薄膜的真空镀膜设备
型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本
制造时间:2003年
状态:运行极好
生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html)
技术规格:
真空腔体尺寸: φ1100mmxH 1600mm
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm)
耐加热系统: φ20mm 4kw
蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)
JEBG-102UHO(φ35ccx20)
JST-16F (16kw)
IAD 系统: 无
光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass φ30x30)
石英晶体微天平监控器: 无
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统: 最大350℃±10℃(36kw)
型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本
制造时间:2003年8月
状态:运行极好
生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html)
技术规格:
真空腔体尺寸: φ1150mmxH 1500mm
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm)
耐加热系统: φ20mm 4kw
蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)
G-12100(φ35ccx20)
D-10001 (10kw)
IAD 系统: 无
光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass φ10x60pcs)
石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon)
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统: 300℃±10℃(21kw)
光学薄膜的真空镀膜设备
型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本
制造时间:2003年
状态:运行极好
生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html)
技术规格:
真空腔体尺寸: φ1100mmxH 1600mm
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm)
耐加热系统: φ20mm 4kw
蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)
JEBG-102UHO(φ35ccx20)
JST-16F (16kw)
IAD 系统: 无
光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass φ30x30)
石英晶体微天平监控器: 无
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统: 最大350℃±10℃(36kw)
型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本
制造时间:2003年8月
状态:运行极好
生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html)
技术规格:
真空腔体尺寸: φ1150mmxH 1500mm
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm)
耐加热系统: φ20mm 4kw
蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)
G-12100(φ35ccx20)
D-10001 (10kw)
IAD 系统: 无
光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass φ10x60pcs)
石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon)
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统: 300℃±10℃(21kw)
光学薄膜的真空镀膜设备
型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本
制造时间:2003年
状态:运行极好
生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html)
技术规格:
真空腔体尺寸: φ1100mmxH 1600mm
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm)
耐加热系统: φ20mm 4kw
蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)
JEBG-102UHO(φ35ccx20)
JST-16F (16kw)
IAD 系统: 无
光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass φ30x30)
石英晶体微天平监控器: 无
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统: 最大350℃±10℃(36kw)
型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本
制造时间:2003年8月
状态:运行极好
生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html)
技术规格:
真空腔体尺寸: φ1150mmxH 1500mm
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm)
耐加热系统: φ20mm 4kw
蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)
G-12100(φ35ccx20)
D-10001 (10kw)
IAD 系统: 无
光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass φ10x60pcs)
石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon)
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统: 300℃±10℃(21kw)
光学薄膜的真空镀膜设备
型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本
制造时间:2003年
状态:运行极好
生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html)
技术规格:
真空腔体尺寸: φ1100mmxH 1600mm
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm)
耐加热系统: φ20mm 4kw
蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)
JEBG-102UHO(φ35ccx20)
JST-16F (16kw)
IAD 系统: 无
光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass φ30x30)
石英晶体微天平监控器: 无
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统: 最大350℃±10℃(36kw)
型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本
制造时间:2003年8月
状态:运行极好
生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html)
技术规格:
真空腔体尺寸: φ1150mmxH 1500mm
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm)
耐加热系统: φ20mm 4kw
蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)
G-12100(φ35ccx20)
D-10001 (10kw)
IAD 系统: 无
光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass φ10x60pcs)
石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon)
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统: 300℃±10℃(21kw)
光学薄膜的真空镀膜设备
型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本
制造时间:2003年
状态:运行极好
生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html)
技术规格:
真空腔体尺寸: φ1100mmxH 1600mm
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm)
耐加热系统: φ20mm 4kw
蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)
JEBG-102UHO(φ35ccx20)
JST-16F (16kw)
IAD 系统: 无
光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass φ30x30)
石英晶体微天平监控器: 无
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统: 最大350℃±10℃(36kw)
型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本
制造时间:2003年8月
状态:运行极好
生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html)
技术规格:
真空腔体尺寸: φ1150mmxH 1500mm
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm)
耐加热系统: φ20mm 4kw
蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)
G-12100(φ35ccx20)
D-10001 (10kw)
IAD 系统: 无
光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass φ10x60pcs)
石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon)
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统: 300℃±10℃(21kw)
光学薄膜的真空镀膜设备
型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本
制造时间:2003年
状态:运行极好
生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html)
技术规格:
真空腔体尺寸: φ1100mmxH 1600mm
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm)
耐加热系统: φ20mm 4kw
蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)
JEBG-102UHO(φ35ccx20)
JST-16F (16kw)
IAD 系统: 无
光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass φ30x30)
石英晶体微天平监控器: 无
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统: 最大350℃±10℃(36kw)
型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本
制造时间:2003年8月
状态:运行极好
生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html)
技术规格:
真空腔体尺寸: φ1150mmxH 1500mm
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm)
耐加热系统: φ20mm 4kw
蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)
G-12100(φ35ccx20)
D-10001 (10kw)
IAD 系统: 无
光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass φ10x60pcs)
石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon)
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统: 300℃±10℃(21kw)
光学薄膜的真空镀膜设备
型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本
制造时间:2003年
状态:运行极好
生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html)
技术规格:
真空腔体尺寸: φ1100mmxH 1600mm
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm)
耐加热系统: φ20mm 4kw
蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)
JEBG-102UHO(φ35ccx20)
JST-16F (16kw)
IAD 系统: 无
光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass φ30x30)
石英晶体微天平监控器: 无
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统: 最大350℃±10℃(36kw)
型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本
制造时间:2003年8月
状态:运行极好
生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html)
技术规格:
真空腔体尺寸: φ1150mmxH 1500mm
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm)
耐加热系统: φ20mm 4kw
蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)
G-12100(φ35ccx20)
D-10001 (10kw)
IAD 系统: 无
光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass φ10x60pcs)
石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon)
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统: 300℃±10℃(21kw)
光学薄膜的真空镀膜设备
型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本
制造时间:2003年
状态:运行极好
生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html)
技术规格:
真空腔体尺寸: φ1100mmxH 1600mm
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm)
耐加热系统: φ20mm 4kw
蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)
JEBG-102UHO(φ35ccx20)
JST-16F (16kw)
IAD 系统: 无
光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass φ30x30)
石英晶体微天平监控器: 无
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统: 最大350℃±10℃(36kw)
型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本
制造时间:2003年8月
状态:运行极好
生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html)
技术规格:
真空腔体尺寸: φ1150mmxH 1500mm
衬底圆顶尺寸: φ950 (3~30rpm)
耐加热系统: φ20mm 4kw
蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)
G-12100(φ35ccx20)
D-10001 (10kw)
IAD 系统: 无
光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass φ10x60pcs)
石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon)
真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL)
加热系统: 300℃±10℃(21kw)
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